技术与应用

成膜工艺

合适的薄膜沉积工艺是提高膜层质量和生产能力所不可缺少的条件。光驰公司从薄膜工艺的角度出发已开发出了一系列的光学薄膜成膜装置。

离子辅助沉积

离子辅助沉积（IAD：Ion Assisted Deposition）是一种利用离子枪轰击基板来提高材料附着力及薄膜质量的成膜方法。离子枪射出的离子具有动能，会以高速撞击基板的膜面。通过这种方式，可以制备出在致密性等方面具有优良品质的薄膜。

反应等离子体系统

这是一种利用反应性等离子体源，同时实现成膜材料蒸发与活化的技术。
可在低温、低成本条件下进行成膜。

溅射法

我们开发了一款采用旋转圆筒型靶材、更具灵活性的光学多层膜溅射镀膜设备。该设备能够实现长期稳定、沉积速率和分布均匀的镀膜。本设备配备了装载锁室，并通过基板夹持器输送系统，确保长期稳定的镀膜过程。