可在高真空环境下进行连续成膜的间隔式蒸镀装置 凭借优异的膜厚分布与直入性,适用于电子设备剥离成膜及光学薄膜的量产
特征- 同时处理多片晶圆
- 优异的成膜直入性
- 大容量及多点坩埚
- 可选配增设工艺室
Products
可在高真空环境下进行连续成膜的间隔式蒸镀装置 凭借优异的膜厚分布与直入性,适用于电子设备剥离成膜及光学薄膜的量产
特征
| 规格型号 | OWLE-1950 |
|---|---|
| 真空室 | D2100mm ×H2060mm(PC) |
| 工件架 | φ1950mm |
| 蒸发源 | 电子枪2套 |
| 离子源 | RF 离子源 |
| 水晶式膜厚计 | 18点式水晶传感器 |
| 光学膜厚控制 | DHOM-4T 波长范围:350nm~2400nm 透过式 |
| 规格型号 | OWLE-1100S(6-inch) | OWLE-1100S(8-inch) | OWLE-1100(4-inch) | OWLE-1100(6-inch) |
|---|---|---|---|---|
| 晶圆尺寸 | 6-inch | 8-inch | 4-inch | 6-inch |
| 装载晶圆数量 | <90°±3° | <90°±4° | 30 wafers | 15 wafers |
| 膜厚均匀性(Max-Min)/(2×Ave) | <±2.0% | <±3.0% | <±1.0% | <±2.0% |
| 坩埚 | φ80mm ×12 pieces | 14 wafers | φ80mm ×20 pieces | φ80mm ×20 pieces |
| 石英晶体振荡器 | 20 (located at center of dome) | |||
| 工艺腔体泵 | 2sets of cryopump and super trap | 2sets of cryopump and super trap | Four turbo pumps and two cryopumps with super traps | Four turbo pumps and two cryopumps with super traps |
| 工艺腔体基底压力 | <9.9E-6Pa | |||