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OWLE直入性蒸镀设备

可在高真空环境下进行连续成膜的间隔式蒸镀装置 凭借优异的膜厚分布与直入性,适用于电子设备剥离成膜及光学薄膜的量产

特征
  • 同时处理多片晶圆
  • 优异的成膜直入性
  • 大容量及多点坩埚
  • 可选配增设工艺室
OWLE

应用领域

规格

规格型号 OWLE-1950
真空室 D2100mm ×H2060mm(PC)
工件架 φ1950mm
蒸发源 电子枪2套
离子源 RF 离子源
水晶式膜厚计 18点式水晶传感器
光学膜厚控制 DHOM-4T 波长范围:350nm~2400nm 透过式

规格2

规格型号 OWLE-1100S(6-inch) OWLE-1100S(8-inch) OWLE-1100(4-inch) OWLE-1100(6-inch)
晶圆尺寸 6-inch 8-inch 4-inch 6-inch
装载晶圆数量 <90°±3° <90°±4° 30 wafers 15 wafers
膜厚均匀性(Max-Min)/(2×Ave) <±2.0% <±3.0% <±1.0% <±2.0%
坩埚 φ80mm ×12 pieces 14 wafers φ80mm ×20 pieces φ80mm ×20 pieces
石英晶体振荡器 20 (located at center of dome)
工艺腔体泵 2sets of cryopump and super trap 2sets of cryopump and super trap Four turbo pumps and two cryopumps with super traps Four turbo pumps and two cryopumps with super traps
工艺腔体基底压力 <9.9E-6Pa
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