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RPD反应等离子体蒸镀设备

可实现低成本量产高性能 LED ( ITO/AlN )薄膜的反应性等离子体镀膜装置

特征
  • 通过反应性等离子源同时实现成膜材料的蒸发及活性化
  • 通过能量镀制高品质的结晶膜
  • 与常规蒸镀相较,实现低温、低成本量产
RPD

应用领域

规格

规格型号 RPD-1000 RPD-1300
真空室 φ1000mm×H1165mm φ1300mm × H1460mm
工件架 φ870mm φ1180mm
蒸发源 反应性等离子源
水晶式膜厚计 6点式水晶传感器
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